多媒體紀念館規劃設計，vr紀念館設計布局，抗戰紀念館設計圖片

在規劃設計中，紀念館處于整個規劃區的中軸黃金位，凸顯其份量之重。紀念館的造型簡潔大方，正立面氣勢恢宏，西側高高揚起，猶如一面飄揚的紅旗。主入口創造地運用變形的五角星，體現獨特內涵，具有鮮明的外觀特征和較強的吸引力和震撼力。

紀念館綜合運用展板、聲光電、浮雕、造型場景、手繪畫、展柜等多重手段，旨在全方位，立體化地將革命根據地的每一個重要史實生動地呈現。“

正面6面窗戶設計成上窄下寬，類似槍的形態，隱喻“槍桿里出政權”的思想。北面的窗戶設計成小開口，且成對出現，隱喻敵人的眼睛在窺視。紀念館分上下兩層，高度15.8米,建筑面積7365平方米，采用規整的柱網和開敞的空間設計，提供了高效、靈活的展覽空間。

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